国产光刻机持续突破 未来可能“反向出口”

近期，国产光刻机消息频频。

上月，全球光刻机龙头ASML CEO 克里斯托弗富凯在接受采访时表示："中国已经在很多领域实现自主研发了，假以时日，他们甚至可能反过来向我们出口这些产品。"

同在上月25日，根据中国政府采购网公告，上海微电子中标科技部1.1亿元光刻机项目。

据报道，上海微电子的28nm浸没式DUV光刻机（SSA800系列）已完成多轮工艺验证，整机国产化率突破85%，套刻精度优于2.5纳米，2025年已进入批量交付阶段。